设备说明：
　　磁控溅射真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。
主要特点：
1、 沉积速率快，温升小，能较好的抑制打火及靶中毒现象；
2、 溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；
3、 触摸屏幕+PLC，可实现全自动控制，自动/手动随时切换；
4、 镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。
5、 工件架采用公自转结构，可设置自动正反转，产品均匀性好；
6、 整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低；
基本配置：
1、 镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造，立式、单开门结构，真空室有效直径自Φ1000mm－Φ1800mm；
2、 真空系统由机械泵、旋片泵、罗茨泵和带冷阱高真空油扩散泵或分子泵组成；
3、 镀膜系统采用2~8套平面靶或柱靶，配有2~8个直流电源或中频电源；
4、 辅助抽气系统采用一台低温水汽捕集器；
5、 充气系统采用1~4路气体流量计及流量控制（显示）仪控制；
6、 电控系统设置电路过载、断水、断气声光报警装置；
7、 控制系统（触摸屏+PLC），实时显示详细参数，全自动控制整个生产过程，并自动存储工艺参数；
8、 可根据客户要求配多套靶源。
技术参数：