电子导电薄膜磁控溅射真镀机
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1.外觀尺寸：4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
2.進料區：可放置625mmχ505 mm料盤二十盤，一盤Max 35個治具，一次入料Max可達700個治具，自動送料盤結構配置一個KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合，抽氣速率可達10000 L/hr
3.鍍膜製程區：本區域設計共8個濺射陰極，採用上方四個、下方四個，並以左右對稱之方式設計，配置一個10FCryo pump，前後 各配置一個(共兩個)方形閘閥，使入料及出料可保持真空。
4.出料區：二十盤料盤，Max700個治具，一次出料自動收料機構。
5.電控裝置區：採用日本三菱PLC，高信賴度，易於保養維護。
二：設計概念：
採用最簡化即是最佳化(Simple Is The Best)設計理念。針對以下問題點做全面考量：
• 腔體尺寸
• 機構設計
• 抽氣系統設計
• 靶材更換便利性
• 設備維護保養
• 鍍膜品質需求
• 軟體功能設計
• 生產效率
三：系統特色
• 腔體採用模組化設計，易於搬運及組合，機構易調校
• 自動送料、收料系統
• 多靶濺射，生產速度快
• 軟硬體高度整合以減少人為操作錯誤的可能性
• 圖形化操作介面，易學易操作，動態顯示設備運轉現狀
• 控制電路板佔用空間小，設計上易維修與查線
• 附換靶台車，省力方便。
四：系統組態及系統規格
4.1系統組態：
| 項目 | 名稱 | 規格型號 | 數量 | 備註 |
| 1 | 真空腔膛 |
三腔式不銹鋼SUS304 |
|
|
| 2 | 磁控濺射陰極 | 5”×22” | 8 | |
| 3 | 直流濺射電源 | 8KW（ADL） | 8 |
德國 |
| 4 | 機械真空泵 | ULVACVDN-902 | 1 | |
| 5 | 高真空分子泵 | KY-400分子泵 | 3 |
或冷凍泵CTI 10F |
| 6 | 高真空冷凍壓縮機 | 9600 | 3 | |
| 7 | 機械真空泵+Booster | ULVAC VDN-902+NB600 | ||
| 8 | 軸封 | 採用磁性流體斷真空 |
5 |
|
| 9 | 大門閥 | 10” | 3 | |
| 10 | 高低真空計 | 美國G.P | 共4 | |
| 11 | Throttle Valve | 蝶形 | 1 | |
| 12 | 自動GAB流量控制 | Ar | 1 | |
| 13 | PLC觸控系統 | 1 | ||
| 14 | 料盤 |
625mm x 525mm |
20片 | |
| 15 | 換靶台車 | 1台 |
4.2系統規格及技術指標：
1. 控制系統；
採用三菱PLC自動控制+人機介面
2.腔体Chamber
材質：SUS304不銹鋼材質外加Water Jacket出料區、進料區大門材質為鋁合金
3.電漿源與靶材
電漿源：磁控濺射源x 8、水冷式〈上方四靶，下方四靶〉靶材尺寸：5”x 22”x 1/2”Target
固定方式：Clamp type
4.DC電源供應器
MAX 8 KW水冷式
