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产品与服务

工具类专用PVD镀膜机

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详情:

设备说明:
  该设备是参考国外先进技术,研制开发的一种物理气相沉积(PVD)真空镀膜设备,可同时安装两至四种不同纯金属或合金靶材,进行单层或多层(纳米)膜的镀制。适用于各类钻头、铣刀、齿轮刀具、拉刀、丝锥、剪刀、刮面刀片、铸模、注塑模、磁粉成型模,冲剪模等。通过对工件表面在物理、化学、机械、颜色等方面的改性,达到耐磨、超硬、自润滑的效果。
主要特点:
1、 采用反应气体等离子源辅助沉积,对工件进行预清洗及镀膜时的辅助沉积;
2、 采用大功率的脉冲偏压电源,使工件与膜层获得更好的结合力;
3、 采用多套孪生靶及弧,可同时安装2~4种不同纯金属或合金靶材,获得复合纳米镀层;
4、 工件架采用公、自转结构,承重能力强及耐高温,并可移动出腔体,方便装卸比较重的模具;
5、 触摸屏+PLC,可实现全自动控制,自动/手动随时切换。

JYD系列硬质膜层(刀铣具)真空镀镀膜机
型号及技术参数
性能 型号 JYDC-9010 JYDC-1012 JYDC-1213
镀膜室尺寸 Ф900×H1000mm Ф1000×H1200mm Ф1200×H1300mm
电源类型 脉冲偏压电源、电弧靶电源、脉冲电弧靶电源、离子离化电源
真空室结构 立式前开门单门、双门结构、后置抽气系统,卧式、滚镀、侧置抽气系统
真空室材质 全优质不锈钢材质、双层室体
极限真空 8.0X10-4Pa
抽气时间 从大气抽至8.0×10-3Pa≤16分钟 (空载)
真空获得系统 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵(具体型号可根据客户的要求进行配置)
制膜种类 金属膜、反应膜、化合物膜、多层膜、半导体膜、超硬膜
多弧靶类型 圆型60-100电弧靶、矩型电弧靶、圆柱型电弧靶、电磁电弧靶
电弧电源功率及电弧靶数量 根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配
偏压电源 30KW/1台 40KW/1台 50KW/1台
工件转架 转动方式 行星式公自转、变频调速(可控可调)
工艺气体 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统 选配自动加气系统
冷却方式 水循环冷却方式,另需配冷却水塔或工业冷水机或深冷系统。(客户提供)
控制方式 手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制
整机总功率 55KW 70KW 90KW
报警及保护 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警,并执行相应保护措施及电气联锁功能。
设备占地面积 W2m×L3m W3m×L4m W4.5m×L6m
其他技术参数 水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa
其它机型 可以按照客户需求针对产品“量身定做”设计专用镀膜机