PECVD纳米级碳膜真空涂层设备

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　　PECVD等离子体增强化学气相沉积是将低压气体放电形成的等离子体应用于化学气相沉积的一项新技术。在PECVD装置中，将基片置于低压辉光放电的阴极上，通入适当气体，在一定温度下，利用化学反应和离子轰击相结合的过程，在基片表面沉积成膜。所以，PECVD不但包括化学气相沉积，同时又有等离子体放电的强化过程。
在众多的等离子产生办法中，骏鹰PECVD反应系统使用了高密度的等离子源，如高频（RF-PECVD）、微波（MW-PECVD）和电子回旋共振（ECR-PECVD）。其浓密的等离子适用于薄膜太阳能电池、表面改性、光和工业镀覆、氮化硅钝化、金刚石薄膜和其他。提供的PECVD系统可为客户个体制造和研发需求量身定制。
MW-PECVD
骏鹰微波PECVD系统主要用于沉积金刚石薄膜。提供生产多种形态的薄膜、如类金刚石碳(DLC)和单晶金刚石、纳米晶体金刚石、超纳米晶体金刚石以及单晶金刚石的加工方法。光学性能可以从乌黑到所有的光学级别。金刚石薄膜在光学级金刚石上可以达到1.2mm的厚度，而在黑金刚石上为2mm。我们的915 MHz MW-PECVD系统可镀覆直径高达4“/ 100毫米的基片。对于直径2"/50 mm或更小的金刚石，使用2.45 GHz MW-PECVD系统更为经济。
真空室：内腔尺寸   φ500mm（直径）×350mm（高）.
φ500mm×550mm
φ600 mm×500 mm             
φ700mm×500mm