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电子导电薄膜专用磁控溅射镀膜线
电子导电薄膜专用 磁控溅射镀膜线

1.外觀尺寸:4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
2.進料區:可放置625mmχ505 mm料盤二十盤,一盤Max 35個治具,一次入料Max可達700個治具,自動送料盤結構配置一個KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合,抽氣速率可達10000 L/hr
 

1.外觀尺寸:4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
2.進料區:可放置625mmχ505 mm料盤二十盤,一盤Max 35個治具,一次入料Max可達700個治具,自動送料盤結構配置一個KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合,抽氣速率可達10000 L/hr
3.鍍膜製程區:本區域設計共8個濺射陰極,採用上方四個、下方四個,並以左右對稱之方式設計,配置一個10FCryo pump,前後     各配置一個(共兩個)方形閘閥,使入料及出料可保持真空。
4.出料區:二十盤料盤,Max700個治具,一次出料自動收料機構。
5.電控裝置區:採用日本三菱PLC,高信賴度,易於保養維護。
二:設計概念:

採用最簡化即是最佳化(Simple Is The Best)設計理念。針對以下問題點做全面考量:
• 腔體尺寸
• 機構設計
• 抽氣系統設計
• 靶材更換便利性
• 設備維護保養
• 鍍膜品質需求
• 軟體功能設計
• 生產效率
三:系統特色
• 腔體採用模組化設計,易於搬運及組合,機構易調校
• 自動送料、收料系統
• 多靶濺射,生產速度快
• 軟硬體高度整合以減少人為操作錯誤的可能性
• 圖形化操作介面,易學易操作,動態顯示設備運轉現狀
• 控制電路板佔用空間小,設計上易維修與查線
• 附換靶台車,省力方便。
四:系統組態及系統規格
4.1系統組態:

項目 名稱 規格型號 數量 備註
1 真空腔膛

三腔式不銹鋼SUS304

 

 
2 磁控濺射陰極 5”×22”   8  
3 直流濺射電源 8KW(ADL) 8

德國

4 機械真空泵 ULVACVDN-902 1  
5 高真空分子泵 KY-400分子泵 3

或冷凍泵CTI 10F 

6 高真空冷凍壓縮機 9600 3  
7 機械真空泵+Booster ULVAC VDN-902+NB600    
8 軸封 採用磁性流體斷真空

5

 
9 大門閥  10” 3  
10 高低真空計    美國G.P 共4    
11 Throttle Valve 蝶形  1  
12 自動GAB流量控制  Ar  1  
13 PLC觸控系統   1  
14 料盤

625mm x 525mm

20片    
15 換靶台車   1台  

4.2系統規格及技術指標:
 1. 控制系統;
  採用三菱PLC自動控制+人機介面
 2.腔体Chamber
 材質:SUS304不銹鋼材質外加Water Jacket出料區、進料區大門材質為鋁合金
 3.電漿源與靶材
 電漿源:磁控濺射源x 8、水冷式〈上方四靶,下方四靶〉靶材尺寸:5”x 22”x 1/2”Target
固定方式:Clamp type 
4.DC電源供應器
 MAX 8 KW水冷式

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