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磁控溅射镀膜机
磁控溅射镀膜机

设备说明:
磁控溅射真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。

设备说明:
磁控溅射真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。
主要特点:
1、 沉积速率快,温升小,能较好的抑制打火及靶中毒现象;
2、 溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高;
3、 触摸屏幕+PLC,可实现全自动控制,自动/手动随时切换;
4、 镀膜室容积大,装载量大,生产效率高。
5、 工件架采用公自转结构,可设置自动正反转,产品均匀性好;
6、 整机配置合理,抽气速率快,噪声小,耗能低;
基本配置:
1、 镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造,立式、单开门结构,真空室有效直径自Φ1000mm-Φ1800mm;
2、 真空系统由机械泵、旋片泵、罗茨泵和带冷阱高真空油扩散泵或分子泵组成;
3、 镀膜系统采用2~8套平面靶或柱靶,配有2~8个直流电源或中频电源;
4、 辅助抽气系统采用一台低温水汽捕集器;
5、 充气系统采用1~4路气体流量计及流量控制(显示)仪控制;
6、 电控系统设置电路过载、断水、断气声光报警装置;
7、 控制系统(触摸屏+PLC),实时显示详细参数,全自动控制整个生产过程,并自动存储工艺参数;
8、 可根据客户要求配多套靶源。
技术参数:

总重量 3500kg~6000kg
名义功率 80KW~180KW
抽速(新机、空载) 2×10-3Pa≦8min
极限真空(新机、空载) ≦8×10-4Pa
压升率(新机、空载) 0.67Pa/小时
工件转速 0~20r/min

 

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宁波骏鹰真空科技有限公司

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